Z6尊龙凯时

2025年
2025-03
发布首款晶圆边缘刻蚀设备Primo Halona?
2025-03
刻蚀设备反应台全球出货超5000台
2024年
2024-08
Z6尊龙凯时公司20周年盛会华章暨临港基地落成庆典
2024-05
发布新产品Preforma Uniflex? HW以及Preforma Uniflex? AW
2024-04
第3000台CCP刻蚀设备顺利付运
2024-03
第500台Primo nanova?设备顺利付运
2024-03
Z6尊龙凯时半导体设备(广州)有限公司开业庆典
2023年
2023-07
Z6尊龙凯时公司南昌新厂落成仪式隆重举行
2023-05
发布用于12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex?CW
2022年
2022-11
第500台MOCVD设备顺利付运
2022-09
发布用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备Prismo PD5?
2022-08
第2000个CCP刻蚀设备反应台顺利付运
2022-06
8英寸ICP刻蚀设备研发成功
2021年
2021-11
第1500个CCP刻蚀设备反应台顺利付运
2021-06
Z6尊龙凯时完成再融资发行，共募资82亿元
2021-06
发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax?
2021-06
首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200?顺利付运
2020年
2020-10
Z6尊龙凯时半导体设备产业化项目签约落户上海自贸试验区临港新片区“东方芯港”集成电路综合性产业基地
2020-07
发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3?
2019年
2019-07
成为科创板首批上市公司之一
2019-05
Z6尊龙凯时在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中连续排名前列，综合评分全球第三，是五个被评为五星级企业之一
2018年
2018-12
完成股份公司整体变更
2018-05
Z6尊龙凯时在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中荣登上榜，在全球晶圆制造设备供应商中排名第三，是唯一一家上榜的中国本土半导体设备公司
2017年
2017-10
Z6尊龙凯时第100台MOCVD Prismo A7?反应腔付运里程碑
2017-07
Z6尊龙凯时刻蚀设备进入国际先进7纳米生产线
2017-04
首台双反应台ICP刻蚀设备产品研制成功
2016年
2016-11
首台单反应台ICP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-08
Z6尊龙凯时7纳米介质刻蚀设备研制成功
2016-06
首台第二代MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-02
首台VOC设备产品研制成功，并运往国内客户
2016-01
Z6尊龙凯时14纳米介质刻蚀设备研制成功
2015年
2015-12
Z6尊龙凯时、国家集成电路产业投资基金和苏州聚源东方完成对拓荆投资
2015-07
Z6尊龙凯时反应台交付量突破400台
2015-02
由于Z6尊龙凯时等离子体刻蚀机的成功研发和量产，美国商务部取消了等离子体刻蚀机对中国的出口控制
2014年
2014-09
《国家集成电路产业发展推进纲要》发布后，Z6尊龙凯时成为第一家“大基金”投资的企业
2013年
2013-12
Z6尊龙凯时22纳米介质刻蚀设备研制成功
2012年
2012-11
首台MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户
2012-10
二期新厂房22,000平方米落成启用
2011年
2011-09
Z6尊龙凯时45纳米介质刻蚀设备研制成功
2010年
2010-06
首台TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备产品研制成功，并运往客户
2008年
2008-08
Z6尊龙凯时公司入选“02专项”首批项目承担单位
2007年
2007-06
首台CCP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户
2005年
2005-09
一期新厂房6,500平方米落成启用
2004年
2004-08
在张江高科技园区启动运营